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他山之石-ILABX共享项目
测试题-紫外无掩膜激光直写系统
1、单选题：
显影液的主要成分是什么？
A: 稀乙酸
B: 过氧化氢
C: 氢氧化钠
D: 丙酮
答案: 氢氧化钠
2、多选题：
匀胶机的作用是什么？
A: 使光刻胶均匀覆盖在基片上
B: 甩去多余光刻胶
C: 增加基片上光刻胶厚度
D: 没有什么作用
答案: 使光刻胶均匀覆盖在基片上;
甩去多余光刻胶
3、多选题：
前烘过度或不足会带来哪些问题？
A: 减小了光刻胶中感光成分的活性
B: 光刻胶中的溶剂不能完全被蒸发掉
C: 影响光刻胶在显影液中的溶解度
D: 影响并不明显
答案: 减小了光刻胶中感光成分的活性;
光刻胶中的溶剂不能完全被蒸发掉;
影响光刻胶在显影液中的溶解度
4、多选题：
光刻机有哪几种曝光方式？
A: 接触式曝光
B: 非接触式曝光
C: 投影式曝光
D: 直接曝光
答案: 接触式曝光;
非接触式曝光;
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